楼主: 20080808

Zippo底刻用语

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 楼主| 发表于 2009-02-08 02:04:42 | 显示全部楼层
原帖由 leooel 于 2009-2-7 21:38 发表
5 Y# k1 O! X7 G3 I6 H- y* U/ ^" t" D5 R; h6 g0 U) o% e- _3 T
" I7 h' b% D# _9 B6 R+ S$ U8 r
i fule you本就是一句笑话,好象是周星驰电影出来的吧?没想到他的自尊心这么强大,呵呵; Y$ m. R; {; Y, h4 p
下次不熟的人不开玩笑了,没意思:)
3 r( f' @' D; _
在线但帖子刚打开,回复晚及处理迟了,抱歉!是玩笑的话,这是我气量小了,致歉!让论坛Z友看我们俩笑话,惭愧!
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 楼主| 发表于 2009-02-08 02:22:21 | 显示全部楼层
原帖由 leooel 于 2009-2-7 21:38 发表
2 m( t+ y6 L9 P; w. T& c' }
4 S2 ]9 }4 T% t
/ @; l8 N) f: ^8 w  b: Li fule you本就是一句笑话,好象是周星驰电影出来的吧?没想到他的自尊心这么强大,呵呵8 T) P" c5 ]% S7 C; S
下次不熟的人不开玩笑了,没意思:)

2 O/ f- C5 D7 \% w; L谢谢你对帖子不妥和有误的地方作出纠正,我会作出较为准确的校正。
$ {! O5 X7 R4 l' u1 N! |+ ^也跟你开句玩笑,提出有错而我不纠正,骂娘都该。
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发表于 2009-02-08 02:24:07 | 显示全部楼层
原帖由 20080808 于 2009-2-8 02:04 AM 发表 ' @3 ?( f! q' d0 ~# I3 t  k

6 A. O* ?0 m! D在线但帖子刚打开,回复晚及处理迟了,抱歉!是玩笑的话,这是我气量小了,致歉!让论坛Z友看我们俩笑话,惭愧!
( t: V1 M  q3 d1 G$ V
9 R# z, o0 N& _1 Q" R* Q: i
昨天我看到你投诉火气也比较大,这事到此为止啦。以后多交流吧。
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 楼主| 发表于 2009-02-08 02:27:03 | 显示全部楼层
原帖由 leooel 于 2009-2-8 02:24 发表 5 }4 P6 m. p2 z! v3 x( I8 X( M1 g

3 A: ~% U( @" l+ t( h1 c9 f
$ |& G  m/ }1 Y$ f昨天我看到你投诉火气也比较大,这事到此为止啦。以后多交流吧。
9 E$ m" S- ]$ c
好的!学无止境!
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发表于 2009-02-08 03:21:40 | 显示全部楼层
从两位的交流之中,学到了很多东西,向两位致敬!
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发表于 2009-02-08 03:32:00 | 显示全部楼层
原帖由 20080808 于 2009-2-8 02:27 发表
2 ^7 s8 a# R9 I/ j9 E
- P( n/ D/ E( }. [8 g( N好的!学无止境!
% S6 x* H9 Y5 L4 l! D3 I

: M0 `4 V- A, L4 V  C; U. ]# [, ^& n5 O本身E文也不是我们国人的母语,大家打字的英文有时候稍微随意些就会出错也是情理之中的事情,对2位的沟通解决方式很是佩服,四军章兄的回复也是贴切,很有深意,也对2位资深Z友表示敬意,希望大家效仿.
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 楼主| 发表于 2009-02-08 04:36:15 | 显示全部楼层
谢谢“四军章”和“raymondhx_1129”,惭愧之事!* H0 q0 Z$ G, F# a4 {
帖子的确是冲动下仓促之作,是在整理底刻资料时,突想起有Z友曾问起过这方面资料,急功近利了;之所以急着和“PAT.2023695”交流和查阅资料,就因为感觉帖子表达准确性不高。
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发表于 2009-02-08 14:49:11 | 显示全部楼层
原帖由 PAT.2023695 于 2009-2-8 02:02 发表 * o; n  c2 b  E0 x

, c* u3 V) M- c3 gAK版指出的这两点我还有些疑问:
' J8 q! x7 C% ?TVD的全称我也查了不少资料 VD代表Vapor Deposition是毫无疑问的 这个T代表Thermal吗?我查了很多官方和民间的资料都没有定论  常用的气相沉积法一般分为化学和物理两大类 如果AK版有权威的出处 恳请与在下分享一下* E! o$ ?7 g2 N
- d0 q0 k& G' w3 U
第二个问题我跟另一个朋友也讨论过 Co.的标准全称为Company没有问题 Corporation的缩写是Corp.比较合适 这个可以从各大资源库得到认证 偶尔见到有用Co.代表Corporation的 一般也没有异议 简单点说就是可以混用吧 没有太严格的区分 但是 放到ZIPPO公司身上 Co.就只能翻译成Company了 因为ZIPPO制造公司的全名就是Zippo Manufacturing Company 这是公开的信息 可以上官网查询或者找个ZIPPO纸盒反过来看看

  R9 N, f3 K. D3 z第二条关于Co.的缩写 我看了下 的确如专利兄所述 zippo公司全称是Zippo Manufacturing Company
. V" S6 ^6 ]9 d" D! d2 q: p关于第一个TVD 由于家庭IP无法登陆文献库 所以使用的是google搜索引擎4 N' E7 p5 Q3 ~
TVD通常有两种意思 一种是true vertical depth 实际垂直深度 这通常用于石油钻井方面2 E% h+ C6 e8 g; \$ K, p
另一个就是thermal vapor deposition 热气相沉积 关于中文的翻译不一定准确 但的确存在这种气相沉积法
# r" r9 ?$ o5 [3 Z9 q4 a+ T( K常用的气相沉积法的确如专利兄所说 分为化学和物理两大类 3 r7 Y+ K) l) S
但其下还有很多小分类 这里不一一列举
; o; f$ o( r9 J关于TVD 我这里举一个博士的研究方向(http://www.imre.a-star.edu.sg/personal/getListing_action.asp?strID=liuhf)
  `& S% y! U( e; L
Name:Dr.   Liu Hongfei
Designation:Select
Address:3, Research Link, Singapore 117602
Tel: (65)6874 8047
Fax: (65)6872 0785
Email:
Capability Group:Materials Growth
Research
Research Interests/Areas
  • Molecular beam epitaxial (MBE), Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), thermal vapor deposition (TVD) and DC/RF-magnetron sputtering growth of III-V (/N) and ZnO semiconductor compounds and their related low-dimensional structures and devices; Nanoscale photonic devices; Semiconductor nanostructures: design, processing, characterization and potential applications; Thin films and heterostructures characterizations both structural and optical properties, in-situ and ex-situ techniques; Growth and characterization of diluted magnetic semiconductors (spintronics).
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 楼主| 发表于 2009-02-09 02:22:49 | 显示全部楼层
Co.是Company的缩写,已经得到得到共识。2 y0 _# D9 a- v' q, E# [8 h
帖子上1999年年度版底刻的TVD之所以用terminal velocity dive(极速俯冲)缩写,主要是考虑:1.Ti已经是钛的缩写,材质已经出现在底刻,thermal vapor deposition 是化学术语;true vertical depth ,AK版也在google搜索引擎查询了资料,“一种是true vertical depth 实际垂直深度 这通常用于石油钻井方面”,感觉这两种的表达的缩写,Zippo底刻上没必要性出现;2.根据该款机的设计图案及表达的内容,认为terminal velocity dive更为贴切。TVD缩写文献的部份资料,我也有一些,由于出差在外,要明天晚上回到去后,才能提供;Zippo官方资料对该款机的阐述,就TVD表达的阐述,不知可有?明天晚上我也一起查询一下。- _8 ^7 ?. Q$ E/ R$ Z8 F

: {" o3 M# S+ N* @9 O% _[ 本帖最后由 20080808 于 2009-2-9 02:24 编辑 ]
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发表于 2009-02-09 11:35:38 | 显示全部楼层
字体改的太小了,还是字大点容易看清。
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