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发表于 2009-02-08 14:49:11
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原帖由 PAT.2023695 于 2009-2-8 02:02 发表 
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7 ?# ^) o1 N3 b e3 k yAK版指出的这两点我还有些疑问:) I J8 d8 X5 {2 |0 W0 M
TVD的全称我也查了不少资料 VD代表Vapor Deposition是毫无疑问的 这个T代表Thermal吗?我查了很多官方和民间的资料都没有定论 常用的气相沉积法一般分为化学和物理两大类 如果AK版有权威的出处 恳请与在下分享一下
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% Z+ V6 C; k8 [& A5 C第二个问题我跟另一个朋友也讨论过 Co.的标准全称为Company没有问题 Corporation的缩写是Corp.比较合适 这个可以从各大资源库得到认证 偶尔见到有用Co.代表Corporation的 一般也没有异议 简单点说就是可以混用吧 没有太严格的区分 但是 放到ZIPPO公司身上 Co.就只能翻译成Company了 因为ZIPPO制造公司的全名就是Zippo Manufacturing Company 这是公开的信息 可以上官网查询或者找个ZIPPO纸盒反过来看看 7 m( `+ @& _1 t# w2 T( m! D
第二条关于Co.的缩写 我看了下 的确如专利兄所述 zippo公司全称是Zippo Manufacturing Company
7 o3 o4 w. z3 d) o关于第一个TVD 由于家庭IP无法登陆文献库 所以使用的是google搜索引擎
' ?5 x7 `& Q0 a: \" P/ t7 h$ q0 QTVD通常有两种意思 一种是true vertical depth 实际垂直深度 这通常用于石油钻井方面
7 t& U% F3 q4 V0 d0 h另一个就是thermal vapor deposition 热气相沉积 关于中文的翻译不一定准确 但的确存在这种气相沉积法
" p8 @2 X4 T0 c常用的气相沉积法的确如专利兄所说 分为化学和物理两大类
+ A0 r6 C9 J0 f W" q# w但其下还有很多小分类 这里不一一列举
8 M- r: I Q+ p6 j. k关于TVD 我这里举一个博士的研究方向(http://www.imre.a-star.edu.sg/personal/getListing_action.asp?strID=liuhf). W! \- S: x2 r/ Z8 `- Y
Name: | Dr. Liu Hongfei | Designation: | Select | Address: | 3, Research Link, Singapore 117602 | Tel: (65) | 6874 8047 | Fax: (65) | 6872 0785 | Email: | | Capability Group: | Materials Growth |
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| Research | Research Interests/Areas | - Molecular beam epitaxial (MBE), Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), thermal vapor deposition (TVD) and DC/RF-magnetron sputtering growth of III-V (/N) and ZnO semiconductor compounds and their related low-dimensional structures and devices; Nanoscale photonic devices; Semiconductor nanostructures: design, processing, characterization and potential applications; Thin films and heterostructures characterizations both structural and optical properties, in-situ and ex-situ techniques; Growth and characterization of diluted magnetic semiconductors (spintronics).
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