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发表于 2009-02-08 14:49:11
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原帖由 PAT.2023695 于 2009-2-8 02:02 发表 7 r0 }6 X5 r" |+ m& Z
% J4 E4 x2 z/ ~: G1 E: iAK版指出的这两点我还有些疑问:
+ R E& P* |; ETVD的全称我也查了不少资料 VD代表Vapor Deposition是毫无疑问的 这个T代表Thermal吗?我查了很多官方和民间的资料都没有定论 常用的气相沉积法一般分为化学和物理两大类 如果AK版有权威的出处 恳请与在下分享一下" c" L/ s$ W. F
. j0 U) N7 |% D5 ^第二个问题我跟另一个朋友也讨论过 Co.的标准全称为Company没有问题 Corporation的缩写是Corp.比较合适 这个可以从各大资源库得到认证 偶尔见到有用Co.代表Corporation的 一般也没有异议 简单点说就是可以混用吧 没有太严格的区分 但是 放到ZIPPO公司身上 Co.就只能翻译成Company了 因为ZIPPO制造公司的全名就是Zippo Manufacturing Company 这是公开的信息 可以上官网查询或者找个ZIPPO纸盒反过来看看 ( X& {3 d# w% Z! V. s5 }
第二条关于Co.的缩写 我看了下 的确如专利兄所述 zippo公司全称是Zippo Manufacturing Company 6 W: y$ ~* I8 [- R d5 D; R
关于第一个TVD 由于家庭IP无法登陆文献库 所以使用的是google搜索引擎9 ?* a& D! c* |3 Q! ~; b
TVD通常有两种意思 一种是true vertical depth 实际垂直深度 这通常用于石油钻井方面
7 y9 t: H8 q& D* e! Y$ e% p另一个就是thermal vapor deposition 热气相沉积 关于中文的翻译不一定准确 但的确存在这种气相沉积法
1 n8 `: M4 B. F6 J& v6 ^( i& L常用的气相沉积法的确如专利兄所说 分为化学和物理两大类
& u: Z3 o& K5 r z, y+ r' l( `8 M V但其下还有很多小分类 这里不一一列举
: H6 [' R3 d# g f; f c; ~关于TVD 我这里举一个博士的研究方向(http://www.imre.a-star.edu.sg/personal/getListing_action.asp?strID=liuhf)
0 d( o- `7 ?* w; j4 x- UName: | Dr. Liu Hongfei | Designation: | Select | Address: | 3, Research Link, Singapore 117602 | Tel: (65) | 6874 8047 | Fax: (65) | 6872 0785 | Email: | | Capability Group: | Materials Growth |
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| Research | Research Interests/Areas | - Molecular beam epitaxial (MBE), Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), thermal vapor deposition (TVD) and DC/RF-magnetron sputtering growth of III-V (/N) and ZnO semiconductor compounds and their related low-dimensional structures and devices; Nanoscale photonic devices; Semiconductor nanostructures: design, processing, characterization and potential applications; Thin films and heterostructures characterizations both structural and optical properties, in-situ and ex-situ techniques; Growth and characterization of diluted magnetic semiconductors (spintronics).
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