楼主: 20080808

Zippo底刻用语

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 楼主| 发表于 2009-02-08 02:04:42 | 显示全部楼层
原帖由 leooel 于 2009-2-7 21:38 发表
' b+ {" m) E- s. d& y
: p' I) h. G1 h  X0 q9 ?8 v& R6 v2 A1 S
i fule you本就是一句笑话,好象是周星驰电影出来的吧?没想到他的自尊心这么强大,呵呵6 P# }7 `: \. b9 _" R1 b$ y. o
下次不熟的人不开玩笑了,没意思:)

' r: |$ `" G' O/ I在线但帖子刚打开,回复晚及处理迟了,抱歉!是玩笑的话,这是我气量小了,致歉!让论坛Z友看我们俩笑话,惭愧!
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 楼主| 发表于 2009-02-08 02:22:21 | 显示全部楼层
原帖由 leooel 于 2009-2-7 21:38 发表
( a3 X" P7 N$ o- x% J
4 S9 r  Q7 t: l' r' P
3 x% F0 z- l) D4 Z: xi fule you本就是一句笑话,好象是周星驰电影出来的吧?没想到他的自尊心这么强大,呵呵; P3 Y/ H3 V/ F  N" H: J$ R# f
下次不熟的人不开玩笑了,没意思:)

+ `: \# @, }1 {* h; ~谢谢你对帖子不妥和有误的地方作出纠正,我会作出较为准确的校正。" t/ j. N5 ~. V$ ?8 ^
也跟你开句玩笑,提出有错而我不纠正,骂娘都该。
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发表于 2009-02-08 02:24:07 | 显示全部楼层
原帖由 20080808 于 2009-2-8 02:04 AM 发表 0 k: k/ G9 x" n" x4 D
5 |4 y8 D+ ?4 i
在线但帖子刚打开,回复晚及处理迟了,抱歉!是玩笑的话,这是我气量小了,致歉!让论坛Z友看我们俩笑话,惭愧!

5 s. f5 _# t9 ^, l3 V4 Z% r
* F& r$ B1 C* ?, U昨天我看到你投诉火气也比较大,这事到此为止啦。以后多交流吧。
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 楼主| 发表于 2009-02-08 02:27:03 | 显示全部楼层
原帖由 leooel 于 2009-2-8 02:24 发表
; ^8 F0 ?  P0 c9 c# ~* d
! _. U5 z# d" c6 Z0 z1 A: O7 j
+ u  a3 i9 F, m/ J8 {, q昨天我看到你投诉火气也比较大,这事到此为止啦。以后多交流吧。
6 K& e  z3 ]1 b6 h9 m) r
好的!学无止境!
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发表于 2009-02-08 03:21:40 | 显示全部楼层
从两位的交流之中,学到了很多东西,向两位致敬!
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发表于 2009-02-08 03:32:00 | 显示全部楼层
原帖由 20080808 于 2009-2-8 02:27 发表 ; f: g4 u$ {7 T( r

( @" m0 F8 t  Z9 Y7 @: m3 p好的!学无止境!
4 B9 e5 J8 @! B& d" i! E

0 Y# g  g' ^0 o0 i本身E文也不是我们国人的母语,大家打字的英文有时候稍微随意些就会出错也是情理之中的事情,对2位的沟通解决方式很是佩服,四军章兄的回复也是贴切,很有深意,也对2位资深Z友表示敬意,希望大家效仿.
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 楼主| 发表于 2009-02-08 04:36:15 | 显示全部楼层
谢谢“四军章”和“raymondhx_1129”,惭愧之事!
7 g/ ?& Y  U) R: l% G帖子的确是冲动下仓促之作,是在整理底刻资料时,突想起有Z友曾问起过这方面资料,急功近利了;之所以急着和“PAT.2023695”交流和查阅资料,就因为感觉帖子表达准确性不高。
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发表于 2009-02-08 14:49:11 | 显示全部楼层
原帖由 PAT.2023695 于 2009-2-8 02:02 发表 7 r0 }6 X5 r" |+ m& Z

% J4 E4 x2 z/ ~: G1 E: iAK版指出的这两点我还有些疑问:
+ R  E& P* |; ETVD的全称我也查了不少资料 VD代表Vapor Deposition是毫无疑问的 这个T代表Thermal吗?我查了很多官方和民间的资料都没有定论  常用的气相沉积法一般分为化学和物理两大类 如果AK版有权威的出处 恳请与在下分享一下" c" L/ s$ W. F

. j0 U) N7 |% D5 ^第二个问题我跟另一个朋友也讨论过 Co.的标准全称为Company没有问题 Corporation的缩写是Corp.比较合适 这个可以从各大资源库得到认证 偶尔见到有用Co.代表Corporation的 一般也没有异议 简单点说就是可以混用吧 没有太严格的区分 但是 放到ZIPPO公司身上 Co.就只能翻译成Company了 因为ZIPPO制造公司的全名就是Zippo Manufacturing Company 这是公开的信息 可以上官网查询或者找个ZIPPO纸盒反过来看看
( X& {3 d# w% Z! V. s5 }
第二条关于Co.的缩写 我看了下 的确如专利兄所述 zippo公司全称是Zippo Manufacturing Company 6 W: y$ ~* I8 [- R  d5 D; R
关于第一个TVD 由于家庭IP无法登陆文献库 所以使用的是google搜索引擎9 ?* a& D! c* |3 Q! ~; b
TVD通常有两种意思 一种是true vertical depth 实际垂直深度 这通常用于石油钻井方面
7 y9 t: H8 q& D* e! Y$ e% p另一个就是thermal vapor deposition 热气相沉积 关于中文的翻译不一定准确 但的确存在这种气相沉积法
1 n8 `: M4 B. F6 J& v6 ^( i& L常用的气相沉积法的确如专利兄所说 分为化学和物理两大类
& u: Z3 o& K5 r  z, y+ r' l( `8 M  V但其下还有很多小分类 这里不一一列举
: H6 [' R3 d# g  f; f  c; ~关于TVD 我这里举一个博士的研究方向(http://www.imre.a-star.edu.sg/personal/getListing_action.asp?strID=liuhf)
0 d( o- `7 ?* w; j4 x- U
Name:Dr.   Liu Hongfei
Designation:Select
Address:3, Research Link, Singapore 117602
Tel: (65)6874 8047
Fax: (65)6872 0785
Email:
Capability Group:Materials Growth
Research
Research Interests/Areas
  • Molecular beam epitaxial (MBE), Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), thermal vapor deposition (TVD) and DC/RF-magnetron sputtering growth of III-V (/N) and ZnO semiconductor compounds and their related low-dimensional structures and devices; Nanoscale photonic devices; Semiconductor nanostructures: design, processing, characterization and potential applications; Thin films and heterostructures characterizations both structural and optical properties, in-situ and ex-situ techniques; Growth and characterization of diluted magnetic semiconductors (spintronics).
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 楼主| 发表于 2009-02-09 02:22:49 | 显示全部楼层
Co.是Company的缩写,已经得到得到共识。1 j( X9 n  ?2 d( m
帖子上1999年年度版底刻的TVD之所以用terminal velocity dive(极速俯冲)缩写,主要是考虑:1.Ti已经是钛的缩写,材质已经出现在底刻,thermal vapor deposition 是化学术语;true vertical depth ,AK版也在google搜索引擎查询了资料,“一种是true vertical depth 实际垂直深度 这通常用于石油钻井方面”,感觉这两种的表达的缩写,Zippo底刻上没必要性出现;2.根据该款机的设计图案及表达的内容,认为terminal velocity dive更为贴切。TVD缩写文献的部份资料,我也有一些,由于出差在外,要明天晚上回到去后,才能提供;Zippo官方资料对该款机的阐述,就TVD表达的阐述,不知可有?明天晚上我也一起查询一下。
* R6 \: t6 X0 m. d
) O+ J- E5 N4 S8 f. P. r; B6 W4 @0 }[ 本帖最后由 20080808 于 2009-2-9 02:24 编辑 ]
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发表于 2009-02-09 11:35:38 | 显示全部楼层
字体改的太小了,还是字大点容易看清。
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